一、介绍
1. 结构:光纤内部的“纳米条纹”
FBG是一种在光纤纤芯(直径约8μm)内通过紫外激光刻蚀形成的周期性折射率调制结构,其核心特点包括:
折射率周期性变化:通过紫外曝光或相位掩模技术,在纤芯内形成间隔固定的“凹槽”(周期Λ通常为几百纳米)
物理形态:
均匀光栅:周期Λ恒定,反射单一波长(如1550nm)
非均匀光栅:如啁啾光栅(周期渐变)、切趾光栅(折射率渐变),用于色散补偿或抑制反射旁瓣
保护结构:外层包层(直径125μm)保持完整,仅纤芯被改性,外部通常涂覆聚合物保护层
专业公式:布拉格波长由光栅周期Λ和有效折射率nₑ决定:
2. 工作原理:光的“智能筛子”
FBG基于布拉格衍射效应,其功能可类比为光学滤波器:
选择性反射:仅反射满足布拉格条件的光(λ=λ_B),其他波长透射
物理机制:周期性折射率变化导致入射光发生相干叠加,反射光相位匹配时形成强反射峰。
环境敏感特性:温度/应变会改变Λ和nₑ,引起λ_B偏移:
温度灵敏度:约10 pm/℃(α为热膨胀系数,ξ为热光系数)
应变灵敏度:约1.2 pm/με(P_e为弹光系数)
通俗比喻:
FBG像音乐节的“波长检票员”,只拦截特定“乐队”(λ_B)的粉丝(光波),并通过粉丝衣服颜色变化(λ_B偏移)判断天气冷热(温度)或拥挤程度(应变)。
二、结构
最简单的布拉格光栅结构如图所示,是一个周期性均匀结构,能调节光传播方向的模式有效折射率。一般通过改变折射率(材料变化)或者改变波导尺寸实现折射率的调制效果。 在每个边界处都会发生光的反射,反射信号的相对相位由光栅周期和光的波长决定,有效折射率的重复调制导致多重分布式的反射。反射信号只在一个特定波长附近的窄带内进行产生干涉,即布拉格波长。在该范围内,光被强反射,其他波长的光干涉相互抵消,因此光能通过光栅传输。
导入光栅材料
添加包层结构
参数项 |
当前值 |
物理意义 |
---|---|---|
first axis |
y |
旋转基准轴(可选X/Y/Z) |
rotation 1 (degrees) |
90 |
绕Y轴逆时针旋转90度(右手法则:大拇指指向Y轴正向,四指弯曲方向为旋转正方向) |
second/third axis |
none |
不进行二次/三次旋转(若需复杂朝向可叠加设置,如先X再Y旋转) |
添加光栅
旋转层级 |
执行顺序 |
典型用途 |
图中示例 |
---|---|---|---|
一次旋转 |
第一个基准轴(first axis) |
简单单轴旋转(如水平转垂直) |
|
二次旋转 |
在一次旋转基础上叠加旋转 |
调整物体倾斜角度或复杂朝向 |
|
三次旋转 |
在二次旋转基础上进一步旋转 |
需精确定向的复杂结构(如斜向光栅) |
|
注意到材料是交替不一样的
为什么这样呢?
1.5/1.499交替结构的核心原理
1. 什么是“最小折射率扰动”?
常规光栅:传统反射镜(如金属镜)的折射率突变极大(如空气n=1 → 金属n≈几十),导致强反射但带宽极宽(如全波段反射)。
FBG设计:仅用 1.5 vs 1.499 的微小折射率差(Δn=0.001),相当于在光纤内部植入“纳米级透明条纹”,光几乎感觉不到突变,但周期性叠加后却能精准反射特定波长。
类比:普通镜子像一堵水泥墙(光撞上直接弹回),而FBG像一排透明玻璃条(光大部分穿过,但特定颜色的光会被“集体拦截”)。
2. 如何实现“高波长选择性”?
布拉格条件:反射波长由光栅周期Λ和折射率nₑ决定:
若Λ=535nm、nₑ≈1.4995 → λ_B=1550nm(通信波长)。
窄带反射机制:
微小Δn(0.001)使每个界面的反射光极弱(单界面反射率R≈0.0001%)。
但数百个周期叠加后,仅1550nm的光满足相干增强条件(其他波长相互抵消),最终反射率可达>90%,同时带宽窄至0.1nm。
类比:FBG像一组精确调谐的音叉,只有特定频率(波长)的声音(光)能引发共振,其他频率直接穿过。
3. 为什么Δn=0.001是最优解
Δn值 |
反射率 |
带宽 |
适用场景 |
缺点 |
---|---|---|---|---|
0.001 |
中(~90%) |
窄(0.1nm) |
密集波分复用(DWDM) |
需较长光栅(~10mm) |
0.1 |
高(>99%) |
宽(10nm) |
光纤激光器 |
串扰严重,难以信道隔离 |
0.0001 |
低(<50%) |
极窄(0.01nm) |
超稳激光腔 |
对温度/应变过于敏感 |
“最小折射率扰动”指用1.5/1.499的微小折射率差,像“隐形条纹”一样精准筛选特定波长(如1550nm±0.05nm),同时让其他光几乎无感通过——这是光通信滤波器的黄金标准。
三、添加FDE
分类 |
专业解释 |
通俗解释 |
---|---|---|
定义 |
基于有限差分法求解波导或光纤中电磁模式的本征值(如有效折射率)和场分布的数值工具。 |
专门计算“光在波导中如何传播”的数学显微镜,能告诉你光的“行走路线”和“速度”。 |
核心功能 |
1. 计算模式有效折射率(neff) |
1. 测出光的“减速程度”(折射率) |
作用原理 |
将麦克斯韦方程离散化为差分方程,通过迭代求解本征模式对应的电磁场和传播常数。 |
把波导切成小方块网格,用计算机暴力计算每个方块中光的“扭动”方式,找到最稳定的状态。 |
关键输出 |
- 模式场分布(Ex, Ey, Hz等) |
- 光的“形状照片” |
四、添加EME
分类 |
专业解释 |
通俗解释 |
---|---|---|
定义 |
基于本征模展开法,将光传播分解为多个模式叠加,计算长距离结构中模式间的能量耦合与传输特性。 |
像“光的接力赛跑模拟器”,追踪光在不同路段如何传递“接力棒”(能量) |
核心功能 |
1. 计算S矩阵(透射/反射系数) |
1. 预测光能“跑多远” |
作用原理 |
1. 分段求解模式 |
把光拆成多个“分身”,计算它们如何“手拉手”传递能量,最后汇总结果 |
关键输出 |
- S矩阵(端口间能量关系) |
- “能量账单”(谁传给谁多少) |
在EME仿真设置中,我们定义了两个单元组:第一组对应高折射率区域,第二组对应低折射率区域。由于每组内部材料均匀,每个单元组仅需设置一个计算单元。仿真时,每组将计算4个光学模式(包含基模和高阶模)。通过周期群定义,我们设置了一个周期结构,起始单元组为1,结束单元组为2,重复次数设为20000次。这样,由高低折射率交替组成的单元将重复20000次,最终形成总长度为1厘米的光纤布拉格光栅(FBG)结构。这种配置既能准确模拟FBG的周期性特性,又能保证计算效率。
cell geometry
(核心参数区)
参数项 |
专业解释 |
通俗比喻 |
图中值示例 |
---|---|---|---|
x min(μm) |
仿真区域起点坐标(X轴最小值) |
"画布最左端位置" |
0.25μm |
number of cell groups |
分段组数量(将结构分成不同计算单元) |
"把隧道分成几段施工" |
2组 |
energy conservation |
强制能量守恒(防止数值误差导致能量溢出) |
"会计对账,收支必须平衡" |
已启用 |
number of modes |
每组计算的最大模式数(TE/TM等) |
"考虑光的几种跑步姿势" |
4种 |
allow custom... |
允许每组独立设置模式求解参数 |
"每段隧道用不同施工标准" |
未启用 |
energy conservation的三个选项:
选项名称 | 功能描述 | 通俗解释 |
---|---|---|
none | 默认无特殊设置,系统保持原始几何特性 | "不进行特殊处理,按常规方式计算" |
make passive | 将几何结构设为被动模式,通常指取消该结构的主动物理/能量交互能力 | "让这个结构变成'旁观者',不参与能量交换(比如当成隔热材料)" |
conserve energy | 启用能量守恒计算模式,确保该几何区域的能量转换符合守恒定律 | "严格计算能量进出(比如防止热量凭空消失/增加,适合精密实验模拟)" |
cell group definition
(分段配置区)
参数列 | Group 1 值 | Group 2 值 | 专业解释 | 通俗理解 | 设计意义 |
---|---|---|---|---|---|
group spans (μm) | 0.25 | 0.25 | 每组单元的物理长度 | "每段隧道的长度" | 控制空间分辨率(建议≤λ/6) |
cells | 1 | 1 | 组内不再分子单元(若>1需启用subcell细分) | "这段隧道不分隔小间" | 简化均匀结构的计算 |
subcell method | none | none | 禁用子单元细分(可选CVCS即恒定-可变恒定采样法) | "用整块石头砌墙" | 平衡计算效率与精度 |
modes | 4 | 4 | 计算4个本征模式(通常含TE00/TE01/TM00/TM01) | "考虑光的4种跑步姿势" | 覆盖基模耦合效应 |
custom | default | default | 使用全局求解器设置(未启用自定义参数) | "统一施工标准" | 确保参数一致性 |
cell range | [1] | [2] | 单元编号(Group 1对应第1单元,Group 2对应第2单元) | "隧道段编号" | 明确分段顺序 |
start (μm) | 0.25 | 0.5 | 该组起始坐标(与x min=0.25μm对齐) | "从路牌的0.25km处开始" | 防止位置偏移 |
stop (μm) | 0.5 | 0.75 | 该组结束坐标(自动计算:start + span) | "到0.5km处结束" | 确保无缝衔接 |
periodicity
(周期性设置)
参数/元素 | 专业解释 | 通俗理解 | 图中配置示例 | 设计意义 |
---|---|---|---|---|
number of periodic groups | 周期性组的数量(即结构中有几种不同的重复单元) | "有几种不同的标准化零件" | 1 | 适用于单一重复结构(如均匀光栅) |
start cell group | 周期性重复的起始单元组编号(对应左侧cell group definition中的组号) | "从哪种零件开始循环" | 1(对应Group 1) | 确保周期性从正确位置开始 |
end cell group | 周期性重复的结束单元组编号 | "到哪种零件结束循环" | 2(对应Group 2) | 定义重复单元的范围 |
periods | 重复次数(图中蓝色高亮数值) | "复制粘贴多少次" | 20000 | 决定总结构长度(20000×(0.25+0.25)μm=10mm) |
cell group sequence | 单元组排列顺序的数学表达式 | "施工图纸的循环说明" | [(1,2)^20000] | 表示1和2组交替重复20000次 |
底部功能按钮
按钮/选项 | 专业解释 | 通俗作用 |
---|---|---|
display cells | 可视化分段网格 | "显示施工网格线" |
Clear settings... | 清除当前组分段配置 | "撤销当前段的设计" |
visualize waveguide bend | 显示弯曲波导的3D变形(需配合Y/Z范围设置) | "预览隧道弯道效果" |
Y/Z span(μm) | 设置3D视图的显示范围 | "调整观察窗口大小" |
OK/Apply/Cancel | 确认/应用/取消设置 | "保存/试运行/放弃修改" |
为什么选择Anti-Symmetric?
专业原因 | 通俗解释 | 图中上下文线索 |
---|---|---|
结构对称性利用:仿真结构在Z方向具有反对称场分布(如TE模的磁场分量Hz在中心面反号) | "光的磁场在镜子两边是相反的" | 其他方向(X/Y)设为Metal,Z方向特殊处理 |
计算效率优化:反对称边界可减少50%计算域,仅仿真一半结构即可还原全场 | "只算左半边,右半边用镜像翻转生成" | 底部勾选了"allow symmetry on all boundaries" |
物理合理性:避免强金属边界干扰Z方向的模式场分布 | "不让金属墙扭曲光的自然传播" | 主要能量沿XY平面传输(Z向为弱约束) |
边界条件类型
边界类型 | 专业定义 | 通俗比喻 | 适用场景 |
---|---|---|---|
PML | 完美匹配层(吸收辐射场,无反射) | "光的黑洞" | 开放区域辐射场吸收(如天线仿真) |
Metal | 理想电导体边界(切向电场=0) | "光的镜子" | 金属包层/封闭腔体(如微波滤波器) |
Periodic | 周期性边界(两端场分布相同) | "无限循环的瓷砖" | 光子晶体/光栅的单元仿真 |
Symmetric | 对称边界(电场对称/磁场反对称) | "折叠对称的折纸" | TM模的Ez分量对称结构(如对称波导) |
Anti-Symmetric | 反对称边界(电场反对称/磁场对称) | "镜像翻转的磁场" | TE模的Hz分量反对称结构(如反对称耦合器) |
Bloch | 布洛赫边界(引入相位延迟的周期性边界) | "带螺旋纹路的管道" | 行波结构/非对称周期器件(如螺旋天线) |
PMC | 理想磁导体边界(切向磁场=0) | "磁场的镜子" | 人工磁导体/超材料设计 |
定义ports
分类 | 专业解释 | 通俗理解 | 设计意义 |
---|---|---|---|
基本定义 | 在EME求解器中,Ports是模拟区域的边界接口,用于定义光波的输入/输出位置和模式特性。 | "光的出入口" | 明确仿真中光信号的进出位置 |
模式计算 | 计算端口处的本征模(如TE/TM模),包括有效折射率(neff)、场分布等参数。 | "分析光怎么进出管道" | 确保光波在波导中的传播行为符合物理实际(如单模/多模传输)。 |
数据传递 | 通过S矩阵(散射矩阵)量化端口间的透射/反射系数,描述能量传输关系。 | "记录光从A口进B口出的比例" | 优化器件设计(如减少反射损耗、提高耦合效率)。 |
参数设置 | 支持设置源端口、模式选择(如基模或高阶模)、振幅和相位等。 | "调整入口的光强度和类型" | 模拟不同输入条件下的器件响应(如激光输入或宽带信号)。 |
旋转与偏移 | 可定义端口的旋转角度(θ/φ)和位置偏移(offset),适应非对称结构。 | "倾斜或移动出入口的角度和位置" | 处理复杂几何结构(如斜面耦合器或弯曲波导)。 |
参数分类 | 参数名称 | 专业解释 | 通俗理解 | 典型设置值 |
---|---|---|---|---|
基础设置 | name (port_1) | 端口命名标识,用于区分不同端口 | "给这个出入口贴标签" | port_1 |
Geometry (EME port) | 定义端口类型为EME专用端口(区别于FDTD端口) | "这是专门用于模式计算的出入口" | EME port | |
模式计算 | mode selection | 选择计算模式类型: - fundamental mode:仅计算基模 - user select:手动选择模式 |
"只分析最基础的通行方式" | fundamental mode |
Select Mode(s) | 手动选择特定模式(当mode selection=user select时启用) | "点名要哪几种通行姿势" | - | |
数据操作 | Import Fields | 导入外部计算好的模式场数据 | "直接使用别人算好的通行方案" | - |
Visualize Data | 可视化当前端口的模式场分布 | "查看这个出入口的监控画面" | - | |
Clear Data | 清除已计算的模式数据 | "重置这个出入口的配置" | - | |
旋转设置 | theta (degrees) | 绕Y轴旋转角度(调整端口朝向) | "上下倾斜出入口的角度" | 0°(水平放置) |
phi (degrees) | 绕Z轴旋转角度(调整端口平面方向) | "左右旋转出入口的角度" | 0°(正对放置) | |
高级设置 | number of trial modes | 尝试计算的最大模式数量(影响计算精度和耗时) | "最多考虑多少种通行方案" | 20 |
offset (μm) | 端口位置偏移量(垂直于端口平面的位移) | "把出入口往前/后挪一点" | 0(不偏移) | |
auto update | 自动更新模式索引(保持模式顺序一致性) | "自动整理通行方案编号" | 启用 |
五、运行
EME作为一种频域求解器,其计算过程是针对特定波长独立进行的。为了获得器件在1.495μm至1.504μm波长范围内的完整光学响应特性,我们通过参数扫描功能在该波段均匀选取100个采样点依次计算。每次仿真会输出对应波长的S矩阵(用户散射矩阵),这些结果将被系统自动保存,最终组合形成完整的透射/反射光谱数据。
时域方法(如FDTD):
像拍电影,一帧一帧记录光波在时间上的变化(比如光脉冲如何传播、反射、衰减)。
特点:需要模拟光波从开始到稳定的全过程,计算量大,但能看动态过程(如脉冲变形)。频域方法(如EME):
像拍照片,直接问:“如果光波是某个固定波长(比如1.55μm),最终会怎么分布?”
特点:跳过时间演化,直接计算稳态结果(如透射率、模式分布),计算快,但看不到瞬态过程。
创建一个参数扫描
区域 | 设置项 | 图中值/操作 | 作用说明 |
---|---|---|---|
Name | 扫描任务名称 | sweep |
自定义标识此扫描任务(便于后续区分) |
Solver | 求解器类型 | EME |
选择本征模扩展算法(适合分析波导模式传输) |
Parameters | 扫描参数类型 | Ranges |
表示按范围线性扫描(另有List 可自定义离散值) |
扫描点数 | 100 |
在1.495–1.504μm范围内均匀取100个波长点(步长~0.009 nm) | |
参数名称 | wavelength |
目标参数为波长 | |
参数范围 | 1.495 → 1.504 μm |
覆盖C波段附近波长(典型光纤通信波段) | |
Result | 输出结果 | S (::model::EME::user s matrix ) |
要求求解器输出S矩阵(包含所有端口的传输/反射系数) |
S矩阵:
S矩阵是描述光信号在器件端口间传输与反射关系的数学工具。在EME仿真中:
- 矩阵元素:每个元素 Sij 表示从端口j入射到端口i的复振幅传输/反射系数。例如,S21 是端口1到端口2的透射系数,∣S21∣^2 对应功率传输效率。
- 归一化单位:场分布监视器返回的场数据单位为V/m,而S矩阵元素无量纲,直接反映能量分配比例。
- 维度:矩阵大小由端口数和每个端口的模式数决定。例如,双端口单模系统为2×2矩阵,若每端口支持2种模式则扩展为4×4矩阵。
EME中的S矩阵主要用于:
- 效率分析:计算器件透射率(如 ∣S21∣^2)、反射率(如 ∣S11∣^2),优化耦合结构(如端面耦合器的锥形长度)。
- 宽带响应:通过波长扫描生成S矩阵随波长的变化,分析器件带宽(如MMI耦合器在1.5–1.6μm的传输谱)。
- 模式收敛验证:比较不同模式数下的S矩阵结果,确保仿真精度(如MMI需15种模式收敛)。
运行结束后
分析:
首先看左上角的图表:
- 横轴(X轴):入射光的波长(1.495μm–1.504μm),覆盖了光纤通信中 C波段 的窄带范围(约9nm带宽)。
- 纵轴(Y轴):归一化的光学响应强度(0–1),对应 S矩阵的∣S21∣^2 透射率,值越接近1,表示光能通过器件的效率越高(损耗低)。
- 谐振峰与谷:
- 1.499μm和1.500μm附近的陡峭下降:可能是器件的 阻带 或 谐振吸收峰(如环形谐振器的谐振波长)。
- 其他波段的平坦高值(~0.9):表明器件在这些波长下 透射良好
- 高透射平台:在1.495–1.498 μm和1.501–1.504 μm波长范围内,透射率稳定在 90%以上(0.9–1.0),表明材料/器件对这部分光波几乎无损耗。
- 尖锐吸收谷:在 1.499 μm 处出现一个极窄的透射率骤降(接近0),随后快速恢复,形成“V形”谐振特征。
- 附加波动:在1.500 μm附近存在次级波动(透射率小幅下降至~0.8),可能是多阶谐振或模式干涉的体现。
Plot types部分:
模块/功能 | 选项/参数 | 作用说明 | 典型应用场景 |
---|---|---|---|
Plot types | Line (xy plot) | 绘制二维折线图,显示参数扫描曲线(如S矩阵随波长变化) | EME波长扫描结果分析 |
Image (xy plot) | 生成二维热力图,展示场分布(如Ez场强度) | 模式场分布可视化 | |
Surface (xyz plot) | 创建三维曲面图,呈现多参数依赖关系(如透射率vs波长+波导宽度) | 多变量优化设计 | |
Vector | 绘制矢量箭头图,显示场方向(如电场矢量) | 偏振或相位分析 | |
视图控制 | XY/XZ/YZ | 快速切换二维视图平面(俯视/侧视等) | 多角度检查结构 |
a/b | 自定义视图快捷键(需查软件手册) | 快速调用预设视角 | |
显示设置 | Show axes | 显示坐标轴参考线 | 所有图表通用 |
Hold Camera | 锁定视角比例,旋转时防变形 | 三维结构观察 | |
Global Color Range | 统一多图颜色标尺范围 | 场分布强度对比 | |
Lock Color Bar | 固定颜色条数值范围 | 避免动态缩放干扰 | |
刷新控制 | Redraw | 手动重绘图表 | 批量操作后刷新 |
Auto | 数据变化时自动刷新 | 实时监测仿真结果 | |
扩展功能 | Plot in New Window | 弹出独立图表窗口 | 高清截图或细节分析 |
Attributes部分:
参数项 | 图中设置值 | 作用说明 |
---|---|---|
Data set | sweep:S |
选择要绘制的数据集,此处为参数扫描(sweep)输出的S矩阵结果。 |
Attribute | user s matrix |
指定数据属性为“用户S矩阵”(即EME计算的散射矩阵)。 |
Vector operation | Not Applicable |
未启用矢量操作(如复数分解),因S矩阵元素已是复数形式。 |
Scalar operation | Abs^2 |
对数据取模的平方(即计算|S|²),将复数S矩阵转换为功率/能量比例(如透射率)。 |
Scale | (1e0) |
纵轴单位为线性坐标(未做对数缩放)。 |
Legend | Abs(user s...) |
图例显示“Abs(user s matrix)”,表明曲线表示S矩阵的幅度平方。 |
Line color | Blue |
曲线颜色设为蓝色。 |
Line style | - (实线) |
用实线连接数据点。 |
Line width | 3 |
曲线粗细为3像素,增强可视性。 |
Marker | None |
不显示数据点标记(仅用连续曲线)。 |
Marker size | 8 |
(若启用标记)标记尺寸为8像素。 |
X/Y axis location | Bottom/Left |
坐标轴位置:横轴在底部,纵轴在左侧(常规设置)。 |
parameters部分:
列名 | 参数项 | 设置值 | 作用 |
---|---|---|---|
Attribute(s) | 数据属性 | S矩阵 | 指定待处理的数据集 |
Parameter | 参数名称 | index_1 |
第一个维度参数 |
index_2 |
第二个维度参数 | ||
wavelength |
第三个维度参数(波长,被设为X轴) | ||
Action | 操作类型 | Slice (切片) |
固定index_1=2 和index_2=1 ,仅提取这两个索引对应的数据 |
Plot x axis |
将wavelength 作为图表的横坐标轴 |
||
Value | 参数值 | 2 (index_1) |
选择第一个维度的第2个索引 |
1 (index_2) |
选择第二个维度的第1个索引 |
选项 | 设置状态 | 作用 |
---|---|---|
Single Line | 已选中(蓝色) | 仅绘制单条曲线(当前选择的index_1=2, index_2=1 对应的数据) |
Overplot Lines | 未选中 | 若启用,可叠加多条曲线(如同时显示多个模式的结果) |
Units | (1e0) |
坐标轴单位(此处为线性缩放,1e0表示×10⁰,即原始单位) |
-
index_1=2
表示输出端口/模式编号为2 -
index_2=1
表示输入端口/模式编号为1
在散射矩阵(S矩阵)中,元素 Sij 的物理意义为:
- 第一个下标(i):输出端(接收信号的端口或模式)
- 第二个下标(j):输入端(发射信号的端口或模式)
因此: - S21:端口1→端口2的传输系数
- S11:端口1→端口1的反射系数